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N7 + ou exclusivement pour Apple Huawei! TSMC: la plupart des clients du réseau 7nm se tourneront directement vers le 6nm

  Le 2 mai, lors de la téléconférence sur les résultats trimestriels de cette semaine, Wei Zhejia, PDG et vice-président de TSMC, a révélé que la plupart de ses clients de processus à 7 nm devraient passer à des nœuds de processus à 6 nm et que l’utilisation et la capacité des nœuds à 6 nm devraient augmenter rapidement.

Selon des rapports précédents de Jiwei.com, TSMC avait annoncé l'introduction de la technologie de traitement 6 nm (N6) le 16 avril et devrait entrer en production à l'essai au premier trimestre de 2020.


TSMC a déclaré que la technologie de traitement 6 nm améliorerait considérablement la technologie actuelle du réseau 7 nm, aidant les clients à obtenir un avantage hautement concurrentiel en matière de consommation d'énergie et de coût, tandis que le processus 6 nm utilise également la conception de technologie 7 nm, ce qui accélère le lancement de produits destinés aux clients .

Il est entendu que le procédé 6 nm de TSMC utilisera la lithographie EUV, qui ajoute une couche de lithographie EUV au processus 7 nm (N7 +) de deuxième génération, ce qui augmente la densité du transistor de 18% par rapport à la technologie N7. Entièrement compatible avec N7, il est facile de mettre à niveau la migration et de réduire les coûts. En revanche, le processus 7 nm de deuxième génération constitue un autre ensemble de règles de conception.

En conséquence, le processus 7 nm de TSMC de deuxième génération est assez embarrassant. Bien que la prochaine génération de processeurs de la série Apple A et Huawei Kirin utilisent ce nœud, selon Wei Zhejia, d’autres anciens clients utilisant le procédé 7 nm de première génération pourraient être utilisés. Nous choisirons d'ignorer le nœud N7 + et de passer directement au processus 6 nm.

Il convient de mentionner que les 6 nm de TSMC ne seront produits à l'essai que l'année prochaine et que le processus de 5 nm de TSMC a été lissé par rapport à l'augmentation de 45% de la densité de transistor de 7 nm de première génération, ce qui peut apporter une amélioration des performances de 15% % de réduction de consommation d'énergie. À l’entrée de la phase d’essai, Apple et Huawei devraient ignorer 6 nm et sélectionner directement un processus plus puissant en 5 nm.